ENI GHW-50 射頻電源（RF Generator）由美國 MKS ENI 出品，輸出功率高達 5kW，標準工作頻率 13.56 MHz，廣泛應用于等離子蝕刻、PECVD、PVD 鍍膜、離子清洗等半導體及光電制造工藝。
整機外觀良好，接口完好，已通過基本通電測試。
ENI GHW-50 是一款高功率射頻電源發生器，采用穩頻振蕩與高效放大技術，為真空腔體內的等離子體提供穩定可控的能量輸入。
設備支持本地與遠程控制，兼容多種匹配網絡系統（Matching Network），并具備自動功率調節、故障保護及水冷散熱功能。
技術參數 / Specifications
| 參數項目 | 說明 |
|---|
| 型號 / Model | ENI GHW-50 |
| 品牌 / Brand | ENI / MKS Instruments |
| 輸出功率 / Output Power | 5 kW（5000 W）連續可調 |
| 工作頻率 / Frequency | 13.56 MHz（固定） |
| 電源輸入 / AC Input | 380–480 V 三相，21 A，50/60 Hz |
| 控制方式 / Control | 本地或遠程控制（Analog / Serial） |
| 冷卻方式 / Cooling | 水冷（Water-cooled） |
| 通訊接口 / Interface | Analog I/O、RS232、Matchwork Interface、DC Bias、Interlock |
| 尺寸 / Dimension | 約 483 × 177 × 560 mm（標準 19" 機架安裝） |
| 重量 / Weight | 約 60 kg |
| 產地 / Made in | USA |
背面接口說明 / Rear Panel Connections
RF OUTPUT：射頻功率輸出端（連接匹配器或腔體）
ANALOG I/O：模擬輸入輸出端口（用于遠程控制與監測）
SERIAL PORT：串行通信接口
MATCHWORK INTERFACE：與匹配網絡通訊連接
DC BIAS / INTERLOCK：安全互鎖與偏壓信號接口
WATER IN / OUT：水冷管路進出接口
應用領域 / Applications
半導體等離子蝕刻設備（Etcher / ICP）
PECVD、PVD 鍍膜系統
離子注入與清洗系統
實驗室等離子研究設備
包裝與配置 / Included Items
成色與狀態 / Condition
外觀良好，面板干凈，按鍵靈敏
后面接口齊全，標識完整
已通過上電測試，可正常運行
適合科研與生產用途
