Hitachi 日立 E-1045 離子濺射儀（Ion Sputter），為電子顯微鏡樣品前處理的經(jīng)典機型，廣泛應(yīng)用于 SEM 鍍金、鍍鈀、金屬薄膜制備等科研和工業(yè)領(lǐng)域。

本設(shè)備為 2009 年日本原裝進口，外觀成色良好，內(nèi)部潔凈，功能運行正常，已通過實際測試。圖片均為實物拍攝，所見即所得。

主要參數(shù)

• 型號（Model）：E-1045

• 生產(chǎn)年份：2009

• 電源：100V 50/60Hz 單相

• 功率：1.2 kW

• 產(chǎn)地：日本制造（Made in Japan）

• 用途：離子濺射、SEM 鍍膜、納米材料制備、金屬薄膜沉積

設(shè)備特點

• 可穩(wěn)定產(chǎn)生離子束用于貴金屬鍍膜（Au、Pt、Pd）

• 鍍層均勻，重現(xiàn)性佳

• 適合所有品牌 SEM 樣品前處理

• 操作界面簡單易用

• 內(nèi)置氣體調(diào)節(jié)功能（GAS ADJUST）

 隨機附帶（根據(jù)照片核實）

• ULVAC GLD-136B 機械泵（原裝日本）

• 高壓電纜及氣路管線

• 原裝濺射頭組件

• 設(shè)備電源線與控制連接線

（如需我?guī)湍阏怼鞍锴鍐巍庇糜陔娚堂枋觯铱梢岳^續(xù)完善。）

狀態(tài)說明

• 設(shè)備外觀保存完整，無明顯磕碰

• 內(nèi)部腔體干凈，狀態(tài)良好

• 各項功能正常，可通電試機

• 非常適合實驗室、科研所、半導(dǎo)體工廠使用

適合應(yīng)用

• SEM 樣品前處理

• 金屬薄膜濺射（如金、鉑、鈀）

• 納米材料研究

• 表面工程

• 微電子實驗室